Il LEA dispone di una serie di potenziostati/galvanostati controllati via software in grado di eseguire i più disparati test elettrochimici. Tali strumenti possono essere utilizzati sia in modalità potenziostatica che galvanostatica per eseguire analisi come voltammetrie cicliche (CV), lineari (LSV) e crono-amperometrie per lo studio di bagni galvanici e soluzioni elettrochimiche. Alcuni strumenti sono equipaggiati con un apposito modulo che permette di eseguire analisi di spettroscopia di impedenza elettrochimica (EIS), tecnica all’avanguardia che permette studi non distruttivi di proprietà anticorrosive di film protettivi su depositi galvanici, campioni metallici e coatings funzionali (vernici e film polimerici). Oltre all'applicazione analitica questi strumenti permettono di realizzare campioni tramite elettrodeposizione con controllo fine del potenziale, della corrente o della carica.
Sono disponibili elettrodi rotanti (rotating disk electrode, RDE), per analisi elettrochimiche idrodinamiche a strato diffusivo controllato, per lo studio dei processi faradici e diffusivi in soluzioni campione quali bagni galvanici o soluzioni di componenti organici che promuovono processi elettro-organici come le elttropolimerizzazioni. Tali elettrodi sono disponibili nelle più comuni materiali presenti sul mercato (Pt, Au, Ag, Pd, GC, Cu) garantendo un’ampia versatilità di indagine. Si dispone inoltre di elettrodi ad anello e disco rotante (Rotating Ring-Disk Electrode, RRDE) fondamentali nel campo di ricerca delle celle a combustibile per lo studio di nuovi elettrocatalizzatori. Questo tipo di assetto (disco-anello) permette di valutare l’efficienza dei sistemi di conversione energetica studiando l’evoluzione dell’acqua ossigenata tramite un bipotenziostato a quattro elettrodi (due elettrodi di lavoro).
Il LEA dispone di un sistema di elettrodeposizione automatizzato che, tramite delle elettrovalvole controllate da un PC, permette di cambiare la soluzione presente in cella senza esporre l’elettrodo all’aria. Tramite questo sistema vengono effettuati studi di deposizione su silicio e argento monocristallino di metalli e semiconduttori oltre che film sottili monoatomici mediante la tecnica E-ALD (electrochemical atomic layer deposition). L’E-ALD permette l’ottenimento di depositi a spessore strettamente controllato e risulta un’alternativa competitiva rispetto altre tecniche ad oggi utilizzate. Film ultrasottili realizzati mediante E-ALD trovano applicazione nei sistemi di conversione dell’energia solare e in dispositivi optoelettronici.
I potenziostati attualmente a nostra disposizione sono:
Ultimo aggiornamento
08.10.2021